高纯镨靶主要用于物理气相沉积手段制备金属镨薄膜材料。无论是第一代稀土永磁材料钐钴永磁合金，还是第三代稀土永磁材料钕铁硼，加入适量的镨都能有效地提高和改善永磁材料性能。镨在光纤领域的用途也越来越广，已开发出在1300~1360nm谱区起放大作用的掺镨光纤放大器（PDFA），技术日趋成熟。在激光领域，掺Pr可见光激光器在显示、水下通信、生物医学、量子信息等领域有广阔的应用前景。

根据不同应用领域，我院可按客户需求生产不同形状的高纯金属靶材。如半导体芯片对于靶材的纯度和精度要求最高，技术难度也最高，通常为圆靶；而显示面板行业则要求材料面积大、均匀性好，技术难度不如芯片但要求也很高，形状常为长形方靶。