铽靶的用途：铽靶主要用于通过磁控溅射-晶界扩散技术向钕铁硼材料中渗透铽，达到提升矫顽力的效果，是高性能钕铁硼材料的重要溅射源，广泛应用于钕铁硼磁材制备企业。
晶界扩散：通过在磁钢表面形成一层重稀土（镝、铽）元素的薄膜，经真空热处理使重稀土元素主要沿着低熔点的晶界相进行扩散，然后取代主相晶粒边缘处Nd原子形成高矫顽力壳层，这种独特的显微结构在极低的剩磁下降值基础上可大幅提高磁体矫顽力。这一技术可以通过消耗很少量的重稀土来显著地提高矫顽力，并且不会使剩磁产生明显的下降。
晶界扩散在工艺上已经发展出磁控溅射、蒸镀、涂覆、电沉积等方式，用于晶界扩散的重稀土原料通常有：氟化物，氢化物，氧化物以及纯金属及其合金等。
磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，简称PVD)的一种，磁控溅射晶界扩散是指在真空条件下，通过电压产生辉光放电，将氩气电离化，氩离子轰击镝、铽靶材溅射出镝、铽的原子、原子团或部分电离的原子团，并通过磁场或电场加速，在钕铁硼磁体基体表面沉积重稀土镝、铽薄膜。镝、铽以这种方法附着在钕铁硼表面，在随后的扩散过程中，由于重稀土镝、铽金属的活性高于重稀土化合物，因此在提升钕铁硼矫顽力增幅的一致性、减少扩散后对钕铁硼表面结构的影响等方面具有优点。
