金属铒溅射靶材主要用于磁控溅射（Magnetron Sputtering）制作金属铒薄膜。目前铒最主要的用途在光通讯领域，铒主要用于制造掺铒光纤放大器EDFA（Erbium Dopant Fiber Amplifier），掺铒光纤是在石英光纤中掺入了少量的稀土元素铒(Er)离子的光纤，它是掺铒光纤放大器的核心。Er3+离子具有独特的光学性质，1.53μm发光波长对应于石英光纤的最低损耗窗口，并且发光波长受外界条件影响很小。这些发光特性使其在光纤通讯和光电集成领域有着广阔的应用前景。
铒以混合靶磁控溅射制备掺铒光波导薄膜，用于制造光波导放大器EDWA（Erbium Doped Waveguide Amplifier）。相较于EDFA，EDWA具有尺寸小、增益高、低噪声指数、较低的制造成本等特点，在未来几年内具有极大市场应用潜力。
在高能物理领域，金属铒薄膜可用于制作氢化铒薄膜，作为一种理想的高能质子束源材料。
