高纯钕溅射靶材可用于制备半导体器件、光学玻璃、激光器材、特种合金材料等领域。在半导体行业对溅射膜质量要求非常高，我院生产的高纯钕靶具有高纯度、大尺寸、晶粒细小，具备很好的微观结构。规格上可按照客户要求生产平面圆靶、方靶、旋转管靶。与平面靶相比，旋转管靶的材料利用率更高，寿命更长，但旋转管靶的加工精度和生产工艺要求更高，对材料的密度、纯度、晶粒大小和均一性、尺寸精度等均有要求。

除高纯钕靶外，我院还生产铝钕合金靶。在光电子领域中，铝钕合金靶材可以用于平面显示、触摸屏的玻璃基板电极层的镀膜，制备光纤放大器、半导体激光器等器件。钕的加入可以增强器件的激光发射性能，提高光子的放大效果；在光通信领域中，铝钕合金靶材可以用于制备光纤通信器件。钕的加入可以增加光纤的折射率，提高光纤的传输能力。此外，在显示器件领域，铝钕合金靶材可以用于制备液晶显示器的背光模块。钕的加入可以改善背光模块的亮度和色彩饱和度，提高显示效果。