高纯金属镱靶主要用于OLED显示屏的金属阴极层中，使用镱代替金属镁、银阴极，具有能耗低、分辨率高、色彩饱和度高的特点。OLED显示屏因其具有自发光、广视角、高对比度、响应速度灵敏、可折叠等优点现已广泛用于中高端手机显示屏、智能电视、VR以及各种穿戴设备上。

                                                  

OLED的阴极材料主要作为器件的阴极，为提高电子的注入效率，应该选用功函数尽可能低的金属材料，因为电子的注入比空穴的注入难度要大。金属功函数的大小严重的影响着OLED器件的发光效率和使用寿命，金属功函数越低，电子注入就越容易，发光效率就越高；此外，功函数越低，有机、金属界面势垒越低，工作中产生的焦耳热就会越少，器件寿命也会有较大的提高。

由高纯稀土金属元素镱（Yb）制成的Yb金属膜由于具有低功函数、高透光度、高稳定性和低SPs（表面等离子体激元）效应等优点，非常适合作为OLED阴极材料。因其功函数较低，能提高电子注入能力、降低驱动电压、提高发光效率的优势。高纯镱靶材作为OLED阴极镀膜材料，已在OLED技术领域获得应用。镱薄膜中的金属和非金属元素杂质以及间隙杂质元素都会对OLED性能产生很大影响，作为金属镱国家标准（XB/T 232-2019）以及金属镱靶材行业标准（T/CSRE 19001—2020）起草制定参与单位，多年来我院在高纯金属及其靶材制备上积累了丰富经验，高纯稀土金属制备技术处于国内领先水平，采用真空蒸馏法生产高纯镱制成的金属镱靶具有高纯度、高致密度、组织均匀的特点，可用于OLED阴极材料制造。

另外，金属镱靶材作为镀膜材料，还用于屏蔽涂层材料、栅介质材料、压力传感器材料、磁致伸缩材料、光纤及激光材料等。作为热屏蔽涂层材料。镱能明显地改善电沉积锌层的耐蚀性，而且含镱镀层比不含镱镀层晶粒细小，均匀致密。镱离子由于拥有优异的光谱特性，在激光器和光纤通信中，镱的特定能级使其成为一种理想的激光材料和光通讯的光纤放大材料。