高纯氧化钆技术指标：

5N氧化钆基准物技术指标（杂质含量可根据客户要求定制）：

Gd2O3/REO	≥99.999%	总稀土杂质	≤10 μg/g
Fe	≤ 0.5 μg/g	Co	≤0.1 μg/g
Si	≤2.5 μg/g	Cr	≤0.1 μg/g
Ca	≤3.0 μg/g	V	≤0.1 μg/g
Mg	≤0.2 μg/g	Zn	≤0.1 μg/g
Cu	≤0.1 μg/g	Mn	≤0.1 μg/g

 

6N超高纯氧化钆技术指标（杂质含量可根据客户要求定制）：

Gd2O3/REO	≥99.9999%	总稀土杂质	≤1.0 μg/g
Fe	≤0.01 μg/g	Co	≤0.001 μg/g
Ni	≤0.01 μg/g	Cr	≤0.01 μg/g
Ca	≤0.05 μg/g	V	≤0.01 μg/g
Mg	≤0.01 μg/g	Zn	≤0.01 μg/g
Cu	≤0.01 μg/g	Mn	≤0.01 μg/g

 

超细氧化钆粉末（杂质含量、形貌、粒径分布可按客户要求定制）

Gd2O3/REO	≥99.9%	总稀土杂质	≤0.1%
D50	≤500nm	灼减	≤0.1%
Fe	≤ 0.5 μg/g	Co	≤0.1 μg/g
Si	≤3.5 μg/g	Cr	≤0.1 μg/g
Ca	≤4.5 μg/g	V	≤0.1 μg/g
Mg	≤0.2 μg/g	Zn	≤0.1 μg/g
Cu	≤0.2 μg/g	Mn	≤0.1 μg/g

 

以独居石或混合稀土矿为原料，经萃取等纯化步骤，制得钐钆混合稀土溶液。用草酸沉淀出草酸钆，经分离、烘干、灼烧，制得氧化钆经萃取等纯化步骤，制得钐钆混合稀土溶液。用草酸沉淀出草酸钆，经分离、烘干、灼烧，制得氧化钆。

由于氧化钆良好的中子吸收性和耐高温性, 可用作核反应堆中的中子吸收材料。在核工业中Gd2O3用于核反应堆控制棒，原子反应堆中的中子吸收材料。

氧化钆具有较高的抗腐蚀性和光学透明性，还被广泛应用于制造高温陶瓷、高折射率玻璃、电子元器件、激光材料等领域，具体如下：

氧化钆是制备高温陶瓷的重要原料之一。由于其高热稳定性，可以用作炉具、圆管电炉、电桥等零部件的制造材料。

在玻璃工业氧化钆专用作高折射率玻璃的组分，氧化钆与镧一起使用，有助于玻璃化区域的变化和提高玻璃的热稳定性。

氧化钆在电子元器件中的应用十分广泛。它可以作为电容器、磁性材料、X射线增感屏、传感器和半导体材料的制备原料，还可以用于生产场致发射显示器、荧光粉等。

氧化钆是激光材料的重要组成部分，具有优异的光学性能。通过掺入不同的离子，可以制备出具有不同波长和功率的激光器件，广泛应用于激光通信、医学治疗和工业加工等领域。