高纯镨靶主要用于物理气相沉积手段制备金属镨薄膜材料。无论是第一代稀土永磁材料钐钴永磁合金，还是第三代稀土永磁材料钕铁硼，加入适量的镨都能有效地提高和改善永磁材料性能。镨在光纤领域的用途也越来越广，已开
纯度：Pr/TREM≥99.99% TREM≥99.9% 密度：6.77 g / cm3扫一扫，查看详情
高纯金属镱靶主要用于OLED显示屏的金属阴极层中，使用镱代替金属镁、银阴极，具有能耗低、分辨率高、色彩饱和度高的特点。OLED显示屏因其具有自发光、广视角、高对比度、响应速度灵敏、可折叠等优点现...
纯度：Yb/TREM≥99.99% TREM≥99.9% 密度：6.54g / cm3扫一扫，查看详情
金属铒溅射靶材主要用于磁控溅射（Magnetron Sputtering）制作金属铒薄膜。目前铒最主要的用途在光通讯领域，铒主要用于制造掺铒光纤放大器EDFA（Erbium Dopant ....
纯度：Er/TREM≥99.99% TREM≥99.9% 密度：9.07g / cm3扫一扫，查看详情
镝靶用于通过磁控溅射-晶界扩散技术向钕铁硼材料中渗镝，达到提升矫顽力的效果，是高性能钕铁硼材料的重要溅射源，广泛应用于钕铁硼磁材制备企业...
纯度：Dy/TREM≥99.99% TREM≥99.9% 密度：8.55g / cm3扫一扫，查看详情
铽靶主要用于通过磁控溅射-晶界扩散技术向钕铁硼材料中渗透铽，达到提升矫顽力的效果，是高性能钕铁硼材料的重要溅射源，广泛应用于钕铁硼磁材制备企业...
纯度：Tb/TREM≥99.99% TREM≥99.9% 密度：8.23g / cm3扫一扫，查看详情
钆溅射靶材主要用于薄膜沉积工艺制备金属钆薄膜。金属钆薄膜可用于制备磁光材料和磁致冷材料，也用作原子反应堆中子吸收材料，化学反应的催化剂。
纯度：Gd/TREM≥99.99% TREM≥99.9% 密度：7.90g / cm3扫一扫，查看详情
金属钐靶主要用于磁控溅射制备金属钐薄膜，属于物理气相沉积工艺的一种。金属钐用于制备钐钴永磁体，在高热使用稳定性和抗腐蚀性性能上一直优于钕铁硼永磁体，目前在航空、军事等特殊领域仍是首选材料。钐作为磁性材
纯度：Sm/TREM≥99.99% TREM≥99.9% 密度：7.54g / cm3扫一扫，查看详情
高纯钕溅射靶材可用于制备半导体器件、光学玻璃、激光器材、特种合金材料等领域。在半导体行业对溅射膜质量要求非常高，我院生产的高纯钕靶具有高纯度、大尺寸、晶粒细小，具备很好的微观结构。规格上可按照客...
纯度：Nd/TREM≥99.99% TREM≥99.9% 密度：7.01 g / cm3扫一扫，查看详情
金属钪靶是通过物理气相沉积（PVD）制备金属钪薄膜的关键材料。金属钪靶组件是由钪靶坯和背板焊接组成。钪靶坯是高速离子束轰击的目标材料，属于溅射靶材的核心部分，在溅射镀膜过程中，钪靶坯被离子撞击后，其表
纯度：Sc/TREM≥99.99% TREM≥99.9% 密度：2.985 g / cm3扫一扫，查看详情
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