高纯氧化镱技术指标：

5N 氧化镱基准物技术指标（杂质含量可根据客户要求定制）：

Yb2O3/REO	≥99.999%	总稀土杂质	≤10 μg/g
Fe	≤ 0.5 μg/g	Co	≤0.1 μg/g
Si	≤2.5 μg/g	Cr	≤0.1 μg/g
Ca	≤3.0 μg/g	V	≤0.1 μg/g
Mg	≤0.2 μg/g	Zn	≤0.1 μg/g
Cu	≤0.1 μg/g	Mn	≤0.1 μg/g

 

6N超高纯氧化镱技术指标（杂质含量可根据客户要求定制）：

Yb2O3/REO	≥99.9999%	总稀土杂质	≤1.0 μg/g
Fe	≤0.01 μg/g	Co	≤0.001 μg/g
Ni	≤0.01 μg/g	Cr	≤0.01 μg/g
Ca	≤0.05 μg/g	V	≤0.01 μg/g
Mg	≤0.01 μg/g	Zn	≤0.01 μg/g
Cu	≤0.01 μg/g	Mn	≤0.01 μg/g

 

超细氧化镱粉末（杂质含量、形貌、粒径分布可按客户要求定制）

Yb2O3/REO	≥99.9%	总稀土杂质	≤0.1%
D50	≤500nm	灼减	≤0.1%
Fe	≤ 0.5 μg/g	Co	≤0.1 μg/g
Si	≤3.5 μg/g	Cr	≤0.1 μg/g
Ca	≤4.5 μg/g	V	≤0.1 μg/g
Mg	≤0.2 μg/g	Zn	≤0.1 μg/g
Cu	≤0.2 μg/g	Mn	≤0.1 μg/g

 

高纯氧化镱为白色粉末，含氧化铥时为淡棕色或黄色。微吸湿性，从空气中吸收二氧化碳，是钇组中除氧化镥外碱性最弱的一个。不溶于水和冷的酸，溶于热的稀酸。氧化镱用于制造永磁材料、玻璃、陶瓷的着色剂、激光材料、用于热屏蔽涂层材料、电子材料、电池材料、生物制药、电子工业和化学研究应用显示出优越的性能。随着科学技术的发展，大颗粒氧化镱应用于涂层、溅射、真空镀膜等领域。

以含镱的稀土富集物为原料，采用溶剂萃取法、离子交换法或还原法将Yb3+与其他稀土离子分离出来。然后以适当的沉淀剂将镱以氢氧化物、碳酸盐、草酸盐形式沉淀析出。灼烧其氢氧化物、碳酸盐或草酸盐即得氧化镱。

1.由于氧化镱具有优异的电学和热学性质，因此广泛应用于半导体领域。在晶体生长方面，氧化镱被用作基板材料，能够有效提高硅晶体的质量。

2.氧化镱还可用作薄膜材料，制备半导体器件。氧化镱的薄膜能够提高器件的稳定性和可靠性，增加器件的寿命。随着半导体产业的迅猛发展，氧化镱在半导体领域的应用前景也更加广阔。氧化镱薄膜具有好的光学性质，是制备纳米材料和纳米器件的重要薄膜材料之一。此外，氧化镱还可用于制备光电器件，如太阳能电池、LED等。

3.氧化镱还用于制造计算机的磁泡材料，使磁泡贮存器具有高速度、大容量、小体积、多功能等特点。

4.氧化镱还可以制作磁致伸缩材料。这种材料具有超磁致伸缩性即在磁场中膨胀的特性。该合金主要由镱/铁氧体合金及镝/铁氧体合金构成，并加入一定比例的锰，以便产生超磁致伸缩性。

5.氧化镱还用于制造永磁材料、光学玻璃和石英玻璃光纤的添加剂、陶瓷的着色剂、激光材料、催化剂、化学助剂等。